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首頁 > 供應產品 > 電鍍膜厚檢測儀 電鍍膜厚分析儀 電鍍膜厚測試儀 電鍍膜厚化驗儀 電鍍膜厚測定儀 電鍍膜厚測量儀 電鍍膜厚檢測儀器設備機
電鍍膜厚檢測儀 電鍍膜厚分析儀 電鍍膜厚測試儀 電鍍膜厚化驗儀 電鍍膜厚測定儀 電鍍膜厚測量儀 電鍍膜厚檢測儀器設備機
產品: 瀏覽次數(shù):904電鍍膜厚檢測儀 電鍍膜厚分析儀 電鍍膜厚測試儀 電鍍膜厚化驗儀 電鍍膜厚測定儀 電鍍膜厚測量儀 電鍍膜厚檢測儀器設備機 
品牌: TC
產地: 中國
產品別名: 電鍍膜厚檢測儀器設備
單價: 180000.00元/臺
最小起訂量: 1 臺
供貨總量: 999999 臺
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 10 天內發(fā)貨
有效期至: 長期有效
最后更新: 2021-07-19 21:04
 
詳細信息
產地 中國
產品別名 電鍍膜厚檢測儀器設備
電源電壓 220V
適用范圍 各種電鍍
品牌 其它
型號 光譜
加工定制
電鍍電源 220

性能優(yōu)勢

■ 微小樣品檢測:最小測量面積可到0.008mm2 ■ 變焦裝置算法:可改變測量距離測量凹凸異形樣品,變焦距離

0-90mm

■ 核心EFP算法:Al(13)-U(92)元素的成分分析,Li⑶-U(92)元 素的涂鍍層檢測,多層多元素,甚至有同種元素在不同層也可準測量

■ 先進的解譜技術:減少能量相近元素的干擾,降低檢出限

■ 高性能探測器:大窗口SDD硅漂移探測器

■ 上照式設計:實現(xiàn)對超大樣品或者密集點位進行快、準、穩(wěn)高效

率測量

大行程移動平臺:移動滑臺100*150*145mm

、 可編程自動平臺210*230*145mm

(接受定制)

 

XAD系列為全元素上照式熒光光譜分析儀,可測量納米級厚 度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚,滿足微區(qū)RoHS檢測及多元 素成分分析,可配備自動平臺實現(xiàn)XYZ軸編程位移,實現(xiàn)無人值 守多點測量,測量軟件置入先進的EFP算法及解譜技術解決了諸 多業(yè)界難題。

應用領域




涂鍍層分析

RoHS環(huán)保檢測

地質地礦檢測

貴金屬檢測

合金成分分析

全元素分析

  

涂鍍層檢測


 


 

高集成光路交換系統(tǒng):

儀器研制的光譜儀獨特的光路交換裝置,讓x射線和可見光攝像同一垂直線, 達到測試不同距離的定位與視覺在同一位置,搭配嵌入集成式多準直孔、濾光片切換 裝置,X光擴散度極小;與EFP軟件配合達到對焦、變焦雙焦功能,實現(xiàn)高低、大小、 凹凸不平各種形狀樣品的測試;高集成的光路交換裝置與接收器的角度可縮小一倍, 可以減少弧度傾斜放樣帶來的誤差,同時特征X射線可以穿透測試更厚的表層。

行業(yè)應用  航空航天 5 G領域  手表行業(yè)電子元器件  五金建材汽車零配件水暖衛(wèi)浴珠寶首飾


自主研發(fā)新一代核心算法(EFP)

專業(yè)的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎上,計 算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒 光、吸收增強效應、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā) 出EFP核心算法,結合光路交換系統(tǒng)、變焦結構設 計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)、強大的解譜技 術,只需要少量的標樣來校正儀器因子,可測試各 種材料成分分析、微量元素,超復雜的涂鍍層、滲 層以及有機物層的厚度及成分含量。

環(huán)保檢測解決方案

歐盟 RoHS 指令-2011/65/EU 無鹵指令 IEC61249-2-21 REACH扌旨令

玩具En71指令

美國CPSIA消費品安全改進法 China-RoHS國推自愿性認證 IEC62321 標準

GB/T26125-2011

輕松應對

?分析精度高

?測量范圍廣

?定位超

?測試速度快

?操作特智能

元素與指令對應關系

?標配

O選配

  
 

精度微區(qū)RoHS檢測




地質地礦

合金分析

貴金屬分析

 

 

 


技術參數(shù)

型號

項目、

XAD

XAD-200

涂鍍層分析

可同時分析23個鍍層,24種元素,不同層有相同元素也可分析,可檢測Li⑶-U(92)涂鍍層90種元素

RoHS分析

有害元素檢測(Rohs、鹵素) 低檢出限可達1 ppm

成分分析

用于地礦、合金及貴金屬等物質中AI (13) -U (92)的80種元素成分分析

EFP算法

標配

軟件操作

人性化封閉軟件,自動判斷故障提示校正及操作步驟,避免誤操作

分析時間

1-200秒

探測器

標配Si-Pin半導體探測器,

選配S D D硅漂移大面積2 5 m m 2探測器

標配SDD硅兼大面積25mm2探測器, 選配SDD硅漂移大面積50mm2探測器

/Si-Pin半導體探測器

X射線裝置

微聚焦加強型射線管

準直器

Φ0.3mm;

Φ0.2mm;

Φ0.5mm;

□ 0.1 *0.3mm;

四準直器可選,Φ0.3mm為標酉己(也可另外訂制) 選配四準直器自動切換(也可另夕卜訂制

□ 0.1 *O.3mm/0O.2mm;

00.3/0.5mm;

Φ1.2mm; 05mm/03mm; 四準直器自動切換 (也可另外訂制)

光路交換器

高集成,近測距光斑擴散度<10%

濾光片

標配一種濾光片,可選配四種濾光片自由切換

四種濾光片自由切換

測量距離

具有距離補償功能,可改變測量距離測量凹凸異型樣品,變焦距離0-90mm

樣品觀測

1/2.7"彩色CCD,變焦功能

對焦方式

高敏感鏡頭,無感自動對焦

放大倍數(shù)

光學18-46X,數(shù)字放大20-200倍

儀器尺寸

550mm*760mm*635mm

Z軸移動范圍

145mm

樣品臺移動方式

自動XY滑臺

全自動高精度XY平臺

可移動范圍

100mm*1 50mm

210mm*230mm

儀器重量

100KG

120KG

其他附件

電腦一套、噴墨打印機、附件箱、十二元素片、電鍍液測量杯(選配)、標準片(選配)

X射線標準

DIN ISO 3497、ASTM B 568 和 DIN 50987

詢價單
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