鋁簡介

鋁靶材是一種銀白色的金屬材料

密度為2.7g/cm3

熔點為660℃

沸點為2500℃

在正常條件下輕盈、延展性好且無磁性

鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加工后的產品，具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。

鋁靶材特征

鋁靶材形狀：平面靶、旋轉靶、異型定制

鋁靶材制作方法

以高純度鋁錠作為原材料，對原材料進行鍛造、軋制、熱處理等，使鋁錠內晶粒變細小、致密度增加以滿足濺射所需鋁靶材的要求。對變形處理后的高純度鋁材料進行機械加工，鋁靶材加工要求精度高、表面質量高，加工成真空鍍膜機所需的靶材尺寸就可以了。上圖是我們的鋁濺射靶材的顯微照片，平均晶粒尺寸<300μm。

鋁合金靶材的制作方法

通常采用粉末冶金方法制備鋁鈦、鋁鉻系列合金濺鍍靶材，可以防止成分偏析和微顆粒現象，生產效率高，綜合成本較低。其制備工藝如下：熔熔金屬使其合金化，然后以氣霧化法將金屬熔液制成金屬粉末；篩分合金粉，獲得適當粒徑的粉末；或者直接使用單質金屬粉末進行混合；最終，以熱壓或者熱等靜壓方式將該篩分后的金屬粉末壓制成形，制成鋁鈦、鋁鉻系列濺鍍靶材毛坯。成形溫度一般為500~ 650℃，時間為80 ~ 100min，壓力為20 ~50MPa;通入氬氣作為保護氣體。

鋁靶材應用

可以沉積廉價的鋁膜。當在真空中蒸發時，鋁層會形成望遠鏡、汽車前照燈、鏡子、包裝和玩具上的反射涂層。

它還廣泛用于航空航天、汽車照明、OLED 和光學行業。